КРЕМНИЯ ФТОРИДЫ (фторсиланы). Тетрафторид (тетрафторсилан) SiF₄ - бесцв. газ; плотн. 1,598 г/см³ (-80 °C); давление в тройной точке 0,225 М Па; C⁰_p 73,6 Дж/(моль^.К); DH⁰_обр - 1614,95 кДж/моль, DG⁰_обр - 1572,5 кДж/моль; S⁰₂₉₈ 282,65 Дж/(моль^.К); ур-ние температурной зависимости давления пара: lgp(Па)=12,60-1346/T(118-178 К). Гидролизуется водой с образованием кремнефтористоводородной к-ты и геля SiO₂, выше 800 °С парами воды - до HF и SiO₂. Р-римость (в г/л при 20 °С): в метаноле 328, этаноле 364, ацетоне 31. Образует адцукты с NH₃ и орг. основаниями. Получают SiF₄ термич. разложением фторосиликатов и H₂SiF₆, взаимод. HF и F₂ с Si, SiO₂ и силикатами, в пром-сти - как побочный продукт при кислотной переработке апатита и фосфоритов, в произ-ве HF. Применяют SiF₄ для получения H₂SiF₆ и неорг. фторидов, Si и SiO₂, для очистки Si путем хим. транспортной р-ции (Si+SiF₄D2SiF₂), как реагент для травления Si. Токсичен, ПДК 0,5 мг/м³. Дифторид (SiР₂)_n - газообразное, жидкое или твердое в-во (в зависимости от степени полимеризации). Образуется при взаимод. SiF₄ с Si выше 1100°С и низком давлении (~10 гПа); при быстром охлаждении паров до т-ры жидкого N₂ выделяется в виде эластомера, к-рый самовоспламеняется на воздухе и гидролизуется водой. Деструктивной перегонкой эластомера при 300 °С получают бесцв. жидкие или твердые в-ва, обладающие близкими хим. св-вами, а разложением при 400-950 °С-Si и SiF₄. Дифторид взаимод. с SiF₄, образуя полифторсиланы Si_nF_2n+2, где n=2-14 (см. табл.). Дифторид - реагент в орг. синтезе и промежут. продукт при очистке Si. 
Известны также неустойчивые фторсиланы SiF, SiF₃, SiH₄ Р_x, а также оксифториды (фторсилоксаны) SiOF₂, Si₂OF₆ и др., смешанные галогенфторсиланы SiX_xF_4-x и др. См. также Фторосиликаты. 

Лит.: Rochow E.G., The chemistry of silicon, Oxf. [a. o.]. 1975 (Pergamon texts in inorganic chemistry, v. 9); Perry D.L, Margrave J.L. "J. Chem. Educ.". 1976, v. 53, № II. p. 696-99. Э. Г. Раков.